应用案例 | JUMO产品在半导体行业的应用

• 关键词：久茂,半导体,温度变送器
• 摘要：​半导体产业是构建我国战略科技力量自立自强的核心支撑产业，而半导体零部件生产设备则是决定我国半导体产业高质量发展的关键领域。目前半导体设备市场多为海外厂商垄断，国产设备企业在国家政策和自身技术的支持下正在奋起直追，尤其在刻蚀设备、薄膜沉积设备和测试设备已取得战略突破。

半导体产业是构建我国战略科技力量自立自强的核心支撑产业，而半导体零部件生产设备则是决定我国半导体产业高质量发展的关键领域。目前半导体设备市场多为海外厂商垄断，国产设备企业在国家政策和自身技术的支持下正在奋起直追，尤其在刻蚀设备、薄膜沉积设备和测试设备已取得战略突破。

JUMO凭借丰富的半导体行业应用经验，积极配合国内半导体行业进行深度定制化开发，致力于提供更有潜在节约性的整体解决方案。JUMO将在温度和压力的测量、监控、控制领域提供更多更有效的解决方案。

久茂产品的运用

◆热处理工艺设备

真空退火炉、真空回火炉、高压真空气淬炉

热处理工艺设备中需要对炉内温度的稳定性和均匀性进行良好的检测与测量，从而达到对工件的精细处理，使被处理的工件性能得到显著改善，表面光亮净化，材质得到充分利用。根据不同的炉膛温度选择热电偶/电阻进行测温，并通过PID控制器和安全温度限值器保证炉内温度的均匀性及稳定性：

◆刻蚀设备

等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，该工艺环节对温度、压力参数有着苛刻的一致性和稳定性要求，以保持等离子浓度及流动性处于高度可控状态通过，JUMO产品应用如下：

◆清洗设备

清洗工艺主要用于去除芯片制造中上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物，去除光阻掩膜或残留，也可根据需要进行硅氧化膜、氮化硅或金属等薄膜材料的湿法腐蚀，为下一步工序准备好良好的表面条件。JUMO水质分析产品对清洗液水质参数进行监测，以保证清洗程度，产品应用如下：

总结

JUMO丰富的产品系列，为客户提供了整体解决方案；完整的认证，满足了半导体行业客户的不同需求；强大的定制化能力，有效的契合了客户的运用要求；合理灵活的合作模式也推进了JUMO在半导体行业的产品推广运用；随着行业的发展及与客户的深入合作，JUMO将提供更多的产品满足客户的需求。